原料供給ユニット｜原子層堆積（ALD）装置

原子層堆積（ALD）装置

プリカーサーを供給する配管・バルブをユニットとして集約。供給経路はヒーターによって温度管理され、配管内の原料堆積を防止します。

容器ヒーターにて原料蒸気圧を制御し、2種類のバルブ制御方式で原料供給量をコントロールします。

原料特性に最適に応じた3種類のユニットをご用意しております。

低蒸気圧ユニット	ガスの輸送にキャリアガスを使用。バルブ開閉回数によって、原料供給量を調整。
中蒸気圧ユニット	最大10Hz（100ms）までの高速動作で、単数バルブでありながら正確な供給量の調整が可能。
高蒸気圧ユニット	バルブ開閉回数により供給量を調整、高蒸気圧の原料においても安定した制御が可能。測量ボトルをバルブ間に搭載し、再現性の高い精密な供給制御を実現。

型式	TFALD-S01	TFALD-S02	TFALD-S03
適応原料	低蒸気圧	中蒸気圧	高蒸気圧
制御バルブ数	2	1	2
バルブ仕様	Fujikin FPR-NHD 高温（200℃）／高耐久（3000万回）
供給方式	パルス制御	時間制御	パルス制御
メジャーリングボトル	-	-	◯
ヒーター温度	MAX180°C

配管径	SUS316 3/8インチ
接続口径（反応室側）	UJR-6.35N
接続口径（原料容器側）	UJR-6.35N
通信方式	イーサネット通信シリアル通信（RS-485）
入力電源	AC100V 7A
外形寸法（幅×奥行×高さ）	150×410×384mm（突起部を除く）
付属品	電源ケーブル 2m 通信ケーブル 1m
オプション品（別売）	原料容器ボトル原料容器ヒーター制御ソフトウェア（Windows専用）タッチパネル型制御コントローラ

反応性ガスを供給する配管・加熱ヒーター・バルブをユニットとして集約。供給経路はヒーターによって温度管理され、配管内の原料堆積を防止します。

流量または圧力制御でのガス供給コントロールに対応します。

シングル／ダブルバルブユニットのほか、水や酸素などの酸化剤供給に適した3種類のユニットをご用意しております。

シングルバルブユニット	シンプルな配管／バルブ構成。ガスラインの代わりに原料容器を取付けることで、蒸気などの供給にも代用可能。
ダブルバルブユニット	2種類のガスを切替制御。同時制御による混合供給も可能。
酸化剤ユニット	シングルバルブガス供給ラインと液体ソース用ラインを一体化。 H₂OおよびO₂などの供給制御が1台で可能です。

型式	TFALD-G01	TFALD-G02	TFALD-GP1
供給ライン	1	2	液体用 1 ガス用 1
制御バルブ	1	2
バルブ仕様	Fujikin FPR-NHD 高温（200℃）／高耐久（3000万回）
制御方式	流量／圧力制御 ※別途、ガス供受給ユニットが必要となります。
最大温度	MAX180℃

配管径	SUS316 3/8インチ
接続口径（反応室側）	UJR-6.35N
接続口径（原料容器側）	UJR-6.35N
通信方式	イーサネット通信シリアル通信（RS-485）
入力電源	単相100V 7A
外形寸法（幅×奥行×高さ）	150×410×384mm（突起部を除く）
付属品	電源ケーブル 2m 通信ケーブル 1m
オプション品（別売）	原料容器ボトル原料容器ヒーター制御ソフトウェア（Windows専用）タッチパネル型制御コントローラーガス供受給ユニット ※仕様によって異なります

シングルバルブユニット	シンプルな配管／バルブ構成。ガスラインの代わりに原料容器を取付けることで、蒸気などの供給にも代用可能。
ダブルバルブユニット	2種類のガスを切替制御。同時制御による混合供給も可能。
酸化剤ユニット	シングルバルブガス供給ラインと液体ソース用ラインを一体化。 H₂OおよびO₂などの供給制御が1台で可能です。