お客様のプロセス処理・条件等のご要望に応じて設計、製作いたします。
また、お客様がお持ちの既存装置に適合する、ユニット単体での製作もいたしますので、ご相談ください。
処理ユニット
スパッタカソードユニット
| 対象プロセス |
スパッタ成膜 |
| 取付けサイズ |
ICF152 |
ターゲット
サイズ
|
3インチ |
| 最大出力 |
DC1500W
RF500W
|
| 位置調整範囲 |
0~100mm |
イオンソースユニット
| 対象プロセス |
イオンミリング
反応性イオンスパッタ
|
| 取付けサイズ |
ICF152 |
| 照射範囲 |
Ø40mm |
| 最大出力 |
RF200W |
ICPユニット
| 対象プロセス |
CVD/ドライエッチング |
| 取付けサイズ |
ICF203 |
| 導波管サイズ |
Ø75 |
| 最大出力 |
RF500W |
電子ビームユニット
| 対象プロセス |
蒸着成膜 |
| 取付けサイズ |
ICF203 |