お客様のプロセス処理・条件等のご要望に応じて設計、製作いたします。
また、お客様がお持ちの既存装置に適合する、ユニット単体での製作もいたしますので、ご相談ください。
処理ユニット
スパッタカソードユニット
対象プロセス |
スパッタ成膜 |
取付けサイズ |
ICF152 |
ターゲット
サイズ
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3インチ |
最大出力 |
DC1500W
RF500W
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位置調整範囲 |
0~100mm |
イオンソースユニット
対象プロセス |
イオンミリング
反応性イオンスパッタ
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取付けサイズ |
ICF152 |
照射範囲 |
Ø40mm |
最大出力 |
RF200W |
ICPユニット
対象プロセス |
CVD/ドライエッチング |
取付けサイズ |
ICF203 |
導波管サイズ |
Ø75 |
最大出力 |
RF500W |
電子ビームユニット
対象プロセス |
蒸着成膜 |
取付けサイズ |
ICF203 |