プラズマ実験装置プラズマ処理ユニット

お客様のプロセス処理・条件等のご要望に応じて設計、製作いたします。
また、お客様がお持ちの既存装置に適合する、ユニット単体での製作もいたしますので、ご相談ください。

処理ユニット

スパッタカソードユニット

対象プロセス スパッタ成膜
取付けサイズ ICF152
ターゲット
サイズ
3インチ
最大出力 DC1500W RF500W
位置調整範囲 0~100mm

イオンソースユニット

対象プロセス イオンミリング 反応性イオンスパッタ
取付けサイズ ICF152
照射範囲 Ø40mm
最大出力 RF200W

ICPユニット

対象プロセス CVD/ドライエッチング
取付けサイズ ICF203
導波管サイズ Ø75
最大出力 RF500W

電子ビームユニット

対象プロセス 蒸着成膜
取付けサイズ ICF203

処理ステージ

基板加熱ステージ

ワークサイズ Ø2インチ
機能
  • 加熱機能(MAX700℃)
  • RF印加機能

基板昇降ステージ

ワークサイズ Ø3インチ
機能
  • 冷却機能
  • RF印加機能
  • 高さ調整機構
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