プラズマ処理装置複合プラズマ処理装置
1基の真空チャンバーに複数の処理ユニットを搭載。
既存の単一プロセスだけではなく、異なるプラズマ処理の同時または交互処理に対応する複合機能プラズマ処理装置です。
実施例1プラズマCVD装置
一般仕様
| チャンバ | 複合プロセスチャンバー |
|---|---|
| ステージ | 基板昇降ステージ |
| 処理ユニット |
|
実施例2反応性イオンビームスパッタ装置
一般仕様
| チャンバ | 複合プロセスチャンバー |
|---|---|
| ステージ | 基板昇降ステージ |
| 処理ユニット |
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