基礎プラズマ処理装置｜テクノファイン

プラズマ処理装置基礎プラズマ処理装置

初期段階のプロセス実験・検証に最適な高真空対応の実験装置です。
実験に不要な機能を極力排除し、最小限度のコストで導入することが可能です。

実施例1SiNプラズマCVD装置

一般仕様

チャンバ	基礎プロセスチャンバー
ステージ	基板加熱ステージ
基板温度	MAX700℃
インターフェース	手動操作

外観1

外観2

外観3

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